为AI“退烧” | 一场关乎算力未来的散热攻坚战

人工智能(AI)正以持续加快的速度进化,但其澎湃算力的背后,是一场日益严峻的“高烧”危机。散热,已成为制约AI性能持续突破的关键瓶颈。要理解这场“热战”,我们需从芯片发热的第一性原理说起。 


01芯片为何会发热?

图1.晶体管演进:体硅平面晶体管;绝缘体上应变硅/锗技术;多栅/鳍式场效应晶体管器件


现代芯片的核心是数以百亿计的CMOS晶体管,它们通过快速的“开关”动作来处理二进制信号(0和1)。然而,物理规律决定了这一过程无法实现100%的能量转换:

导通损耗: 电流流经构成晶体管的半导体和金属材料时会遇到电阻,产生焦耳热。 

漏电损耗: 晶体管在关闭状态下,存在微量的漏电流,同样导致能量损耗。 

开关损耗: 在状态切换的瞬间,会出现短暂的短路电流。

图2.半导体硅中能量转移过程的图示与特征时间尺度


伴随着芯片正常运行,这些能量最终几乎全部以热量的形式释放,成为芯片发热的根本原因。


02高温的破坏力:从性能衰减到寿命折损 

图3.底层封装功率器件产热与散热示意图


如果热量无法被及时带走,芯片温度将急剧上升,引发恶性循环,对芯片造成即时和长远的双重伤害: 

→ 即时影响:性能暴跌与可靠性下降 

性能降级: 高温会使晶体管开关速度变慢,并导致漏电流呈指数级增长。这不仅增加了额外功耗,还会使信号模糊,降低计算可靠性。 

恶性循环:高温→漏电增加→功耗与热量再升高→温度进一步攀升。此过程一旦开始便难以自止。 

为防止芯片因过热而永久损坏,系统会主动触发降频、降功耗的“过热保护”,这正是手机或电脑发烫时运行卡顿的直接原因。

→ 长期影响:物理损伤与寿命锐减 

高温会加速电子迁移,侵蚀芯片内部微细的金属结构,可能导致电阻激增甚至断路。 

高温还会引发热载流子注入、栅极氧化层降解等结构性损伤,直接破坏晶体管的核心功能。 

这些物理损伤是累积且不可逆的,将显著缩短芯片寿命。对于需要长期高负载运行的AI芯片而言,热管理直接关系到其使用寿命和经济价值。 

工作温度消费级芯片典型寿命AI芯片(高负载)预估寿命
25℃10-15年8-10年
60℃5-8年4-6年
85℃2-4年2-3年
>100℃ (散热失效)<1年<1年

数据来源:[6-8]

因此,均衡性能和损耗,将AI芯片的工作温度稳定在合理区间(如60℃-85℃),是保障其算力与寿命的关键。 


03为何散热挑战日益严峻? 

图4.三维集成电路中的典型热点分布示意图


过去,半导体产业长时间遵循“登纳德缩放定律”,晶体管尺寸缩小后,其功耗也会同步降低,使得摩尔定律下芯片的功耗密度(单位面积发热量)也整体可控,风冷、热管等技术足以应对。然而,当晶体管尺寸逼近物理极限(如2nm及以下),量子隧穿等效应使得“缩放红利”消失,摩尔和登纳德定律同时失效。为了持续提升性能,行业转向了3D堆叠(Chiplet)、多核架构等创新技术,这反而使得热量在更小的空间内高度集中。尤其是在AI大模型的驱动下,单芯片功耗已突破1400瓦,传统散热方案已力不从心,散热由此成为性能提升的主要现实约束。(数据来源:[8])


04破局之路:AI散热的新技术与金刚石材料的潜力

图5.微流体电子协同冷却设计器件


面对挑战,散热技术本身也在经历革命: 

芯片级集成散热: 将微流道等冷却结构直接集成到芯片内部,实现“内生”散热,效率远高于外部散热。 

智能热管理: 通过在芯片内布设大量传感器,并利用AI算法预测温度变化,实现动态、精准的散热控制。 

多模态融合散热: 结合液冷、相变材料等多种技术,形成协同散热方案。 

而在众多前沿材料中,金刚石展现出巨大的应用潜力。其热导率高达2000-2200 W/(m·K),是铜的5倍以上,且具备优异的电绝缘性,是高功率芯片的理想散热材料。目前,金刚石的应用形式日趋多样: 

散热基板: 直接贴合芯片核心,快速导出高热流密度热量。 

热界面材料(TIM): 填充芯片与散热器间的微观空隙,显著降低接触热阻。 

复合材料: 如铜-金刚石复合材料,兼具高导热和易加工特性。 

复合散热方案: 例如“金刚石热沉 + 微流道”技术。 

随着化学气相沉积(CVD)等人造金刚石技术的成熟和成本降低,这一“散热王者”有望在不久的将来,为AI算力的持续飞跃提供坚实的“冷却”基石。


 

沃尔德

Advanced Diamond Thermal Management Solutions

致力于AI、通信、高端电子器件的高效热管理方案


单晶/多晶金刚石热沉片

超高热导率,支持超平整加工与精准尺寸定制,适配晶圆级直接键合等高端应用场景

金刚石导热硅/碳化硅基复合晶圆

兼具Si/SiC的半导体兼容性与金刚石的超高热导率,适配晶圆级批量加工需求

金刚石铜 / 铝复合材料

高功率、轻量化需求场景提供高性价比适配的散热解决方案

参考文献和数据来源

[1]E. Pop, S. Sinha and K. E. Goodson, "Heat Generation and Transport in Nanometer-Scale Transistors," in Proceedings of the IEEE, vol. 94, no. 8, pp. 1587-1601, Aug. 2006, doi: 10.1109/JPROC.2006.879794.

[2]Yuan Qin et al 2023, "Thermal management and packaging of wide and ultra-wide bandgap power devices: a review and perspective", J. Phys. D: Appl. Phys. 56 093001

[3]Woon, WY., Kasperovich, A., Wen, JR. et al. Thermal management materials for 3D-stacked integrated circuits. Nat Rev Electr Eng 2, 598–613 (2025). https://doi.org/10.1038/s44287-025-00196-0

[4]Wu, Z., Xiao, W., He, H. et al. Jet-enhanced manifold microchannels for cooling electronics up to a heat flux of 3,000 W cm−2. Nat Electron 8, 810–817 (2025). https://doi.org/10.1038/s41928-025-01449-4

[5]van Erp, R., Soleimanzadeh, R., Nela, L. et al. Co-designing electronics with microfluidics for more sustainable cooling. Nature 585, 211–216 (2020). https://doi.org/10.1038/s41586-020-2666-1

[6]Engineering at Meta. How Meta keeps its AI hardware reliable - Engineering at Meta[EB/OL]. (2024). https://engineering.fb.com/2024/11/19/ai-hardware/meta-ai-hardware-reliability/

[7]EMBERSON L, SNODIN B, OWEN D. Leading AI chip designs are used for around four years in frontier training[EB/OL]. (2025). https://epoch.ai/data-insights/gpu-frontier-lifespan

[8]NVIDIA. An AI Factory for AI Reasoning NVIDIA DGX B300[EB/OL]. [2025-01-20]. https://www.nvidia.com/en-us/data-center/dgx-b300/.

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